충북대 공업화학과 신동진(박사과정)의 연구논문이 영국화학회(Royal Society of Chemistry, RSC)가 발간하는 국제학술지 Polymer Chemistry 12월호 전면 표지(Front Cover)에 선정됐다.
이번 논문은 ‘음이온 중합, 순차적 탈보호 및 재보호 반응을 통한 분자 조성이 조절 가능하고 이중 반응성을 갖는 poly(4-hydroxystyrene) 기반 포토레지스트의 합성’이라는 제목으로 지난 19일 온라인판에 게재돼 내달 7일 정식 출판한다.
연구팀은 음이온 중합을 활용해 분자구조를 정밀하게 제어한 고분자를 합성하고, 이를 기반으로 정량적·선택적인 탈보호 및 재보호 반응이 가능함을 확인했다.
이와 같이 정교하게 설계된 고분자는 산 및 염기에 각각 반응하는 차세대 이중 반응성 포토레지스트로 활용될 수 있어, EUV 기반 초미세 반도체 공정용 소재의 국산화와 고해상도 구현 기술 확보에 기여할 것으로 기대된다.
신동진씨는 “이번 연구를 통해 Poly(4-hydroxystyrene) 기반 차세대 포토레지스트의 국산화와 고성능화를 앞당기는 데 도움이 되길 바란다”고 말했다.
류상욱 지도교수는 “정밀한 분자 설계 기술이 실제 반도체 제조 공정의 경쟁력 확보로 이어질 수 있도록, 재현성 높은 합성법과 고해상도 리소그래피 소재 연구를 지속하겠다”고 말했다.
김병학 기자 kbh7798@dynews.co.kr